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原子层沉积金属铜薄膜工艺

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企业基本情况:需求企业成立于2017年,是一家主要提供纳米级薄膜涂层服务(如氧化物、氮化物、氟化物以及等)、纳米镀膜设备(如原子层沉积设备,等离子增强原子层沉积系统、火焰纳米喷涂系统)的制造及相关定制产品,集研发、生产、销售为一体的新型高科技微纳技术企业。

简要描述技术需求内容:需求一套原子层沉积技术制备金属铜薄膜的工艺,以及仲丁基脒铜与无水肼用于原子层沉积技术沉积金属铜工艺探究。 要求: 1)用于工艺探究的仲丁基脒铜与无水肼的纯度不低于99%; 2)工艺得到的铜薄膜在4-6英寸的二氧化硅基底上沉积均匀,方块电阻0.1-2 Ω/□; 3)合同有效期间,现场技术指导不低于两次。

预期完成目标:目标1年内能提供一套原子层沉积技术制备金属铜薄膜的工艺,提供仲丁基脒铜与无水肼用于原子层沉积技术沉积金属铜工艺探究。 要求: 1)用于工艺探究的仲丁基脒铜与无水肼的纯度不低于99%; 2)工艺得到的铜薄膜在4-6英寸的二氧化硅基底上沉积均匀,方块电阻0.1-2 Ω/□; 3)合同有效期间,现场技术指导不低于两次。

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